电阻蒸发镀膜机

热电阻蒸发式真空镀膜机，采用热电阻蒸发镀膜，配1~3组电阻蒸发源，结构设计紧凑，性能稳定可靠，自动化操作界面，操控简单方便。广泛应用于科研院所、实验室制备金属、导电薄膜、光学薄膜等，同时可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力；选配电子枪，扩展沉积薄膜类型应用。

特点

一体式系统框架设计

前开门真空腔体，方便取放基片、添加蒸发材料以及真空室的日常维护；

大口径扩散泵作为主抽泵，真空极限高达3×10-4Pa；另可选分子泵或者低温泵作为主抽泵，真空极限≤5×10-5Pa(2×10-8Torr)；

标配冷阱，提高成膜质量；可选配深冷，缩短抽真空时间

可选配E型电子枪，4~8个坩埚

可选配离子源用于离子束清洗及辅助镀膜能力。

可定制各类基板尺寸，加热或水冷

采用Inficon膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚

可沉积金属；非金属；化合物等薄膜材料

应用

科研与教学

主要指标

真空室：立式前开门,304不锈钢；外壁通冷却水，内衬不锈钢防污板

真空系统：机械泵+扩散泵+冷阱（或分子泵、低温泵）+（可选加罗茨泵）

极限真空：3.0E-4pa

恢复真空：大气至4.0E-3pa≤15min

工作架：Φ640mm帽形工件盘等，扇形，行星，转速可调

烘烤：上烘烤用进口管状加热器（下烘烤用碘钨灯加热）；高温度350℃，可调可控

蒸发源：1~3组的电阻蒸发源

电子枪：选配电子束蒸发源，功率6Kv至10Kv

离子源：Φ300px考夫曼（可选），

工艺气体配置：1~3只进口MFC控制

膜厚控制：光学膜厚控制仪或光栅单色仪

石英晶控：国产或进口

电源：3相，380V，50Hz，约30K

其他选配：加热型基台、镀膜机配套冷水机